Ein Pionier fortschrittlicher Technologiematerialien, die die Welt verbessern!

Galliumsalzverbindungen

99,99995 % Trimethylgallium 1445-79-0

Trimethylgallium, oft als TMG oder TMGa abgekürzt, ist eine Organogalliumverbindung mit der chemischen Formel Ga(CH3)3. Diese Verbindung ist eine farblose, pyrophore Flüssigkeit, die im Gegensatz zu Trimethylaluminium eine monomere Struktur aufweist.

Trimethylgallium dient als weit verbreitete metallorganische Galliumquelle in der metallorganischen Gasphasenepitaxie (MOVPE), einem Verfahren, das für die Synthese galliumhaltiger Verbindungshalbleiter, die bei der Herstellung optoelektronischer Geräte und Solarmodule eingesetzt werden, von entscheidender Bedeutung ist.

JETZT ANFRAGEN

Produktdetails

Trimethylgallium

Synonyme	Trimethylgallan, Trimethanidogallium, Gallium, Trimethyl-EINECS 215-897-6
Cas-Nr.	1445-79-0
Chemische Formel	Ga(CH₃)₃
Molmasse	114,827 g/mol
Aussehen	Farblose Flüssigkeit
Schmelzpunkt	−15 °C (5 °F; 258 K)
Siedepunkt	55,7 °C (132,3 °F; 328,8 K)
Löslichkeit in Wasser	Reagiert mit Wasser

Trimethylgallium (TMG) ist eine klare, farblose, pyrophore Flüssigkeit, die sich bei Kontakt mit Luft spontan entzündet. TMG reagiert bekanntermaßen heftig mit Wasser und anderen Verbindungen, die in der Lage sind, labilen oder aktiven Wasserstoff (d. h. Protonen) abzugeben.

TMG muss mit äußerster Sorgfalt und Vorsicht gehandhabt werden. Es sollte kühl und trocken bei Temperaturen zwischen 0 und 25 °C unter Schutzatmosphäre gelagert werden. Um eine Verschlechterung zu vermeiden, darf die Lagertemperatur 40 °C nicht überschreiten.

Unternehmensspezifikation von 99,99995 % Trimethylgallium – niedriger Siliziumgehalt (6N5 TMGa-Low Si)

Element	Ergebnis	Spezifikation	Element	Ergebnis	Spezifikation	Element	Ergebnis	Spezifikation
Ag	ND	<0,03	Co	ND	<0,02	Pb	ND	<0,03
Al	ND	<0,03	Cr	ND	<0,02	S	ND	<0,05
As	ND	<0,03	Cu	ND	<0,02	Sb	ND	<0,05
Au	ND	<0,02	Fe	ND	<0,04	Si	ND	<0,02
B	ND	<0,03	Ge	ND	<0,05	Sn	ND	<0,05
Ba	ND	<0,02	Hg	ND	<0,03	Sr	ND	<0,03
Be	ND	<0,02	La	ND	<0,02	Ti	ND	<0,05
Bi	ND	<0,03	Mg	ND	<0,02	V	ND	<0,03
Ca	ND	<0,03	Mn	ND	<0,03	Zn	ND	<0,03
Cd	ND	<0,02	Ni	ND	<0,03

Notiz:

Vor allem Wert ppm nach Gewicht auf Metall, und ND = nicht erkannt

Analysemethode: ICP-MS

FT-NMR-Ergebnisse (LOD für organische und sauerstoffhaltige Verunreinigungen im FT-NMR beträgt 0,1 ppm)

Sauerstoffgarantie <0,5 ppm (gemessen im FT-NMR)

1. Keine organischen Verunreinigungen festgestellt

2. Keine sauerstoffhaltigen Verunreinigungen festgestellt

Wofür wird Trimethylgallium verwendet?

Trimethylgallium (Ga(CH3)₃), auch abgekürzt TMG oder TMGa, ist die bevorzugte metallorganische Galliumquelle für die metallorganische Gasphasenepitaxie (MOVPE) bei der Synthese galliumhaltiger Verbindungshalbleiter, darunter unter anderem GaAs, GaN, GaP, GaSb, InGaAs, InGaN, AlGaInP, InGaP, AlInGaNP und Ga2O3. Diese metallorganischen Quellen werden zur Herstellung verschiedener galliumhaltiger Verbindungshalbleiter verwendet, wie zum Beispiel:

- Galliumarsenid (GaAs), wird häufig in der Raumfahrt und als Material für blaue Leuchtdioden (LEDs) auf Basis von Galliumnitrid (GaN) eingesetzt.

- Galliumphosphid (GaP) und Galliumantimonid (GaSb), die bei der Herstellung optoelektronischer Geräte eine entscheidende Rolle spielen.

Kupferindiumgalliumsulfid (CIGS) und Kupferindiumgalliumselenid werden bei der Herstellung hocheffizienter Solarmodule verwendet.

Darüber hinaus wird TMG bei der Herstellung von Dünnschichten aus Halbleitermaterialien auf Galliumbasis wie GaAs-, GaN- und GaP-Dünnschichten eingesetzt, die integrale Komponenten in der Mikroelektronik und bei Hochgeschwindigkeitsgeräten sind.

STICHWORTE :